红外干涉显微镜IS2000

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红外干涉显微镜IS2000

精密研磨抛光系统设计科学、性能先进、自动

多种可配置测量模式：5点，49点，米字线，脉冲线
测量适应性强：粗糙表面，抛光面，图形面
可测晶圆：12寸及以下晶圆
全面的测量功能满足半导体制造各工艺阶段的晶圆几何量测需求
测量结果 2D/3D Mapping输出
详细的数据输出、记录管理功能
模块化集成测量：晶圆翘曲、厚度、微观形貌、膜厚等几何参数

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