铌酸锂调制器端面研磨抛光解决方案

客户样品初始状态：

材料：铌酸锂结构件；尺寸：10mm*20mm；形状：方形，长宽有参差；厚度：500um；粗糙度：端面切割痕迹，呈现断崖形貌

加工后指标要求：

形状：两端面磨抛后宽度（10mm方向）差小于50um，总移除宽度＜1mm；粗糙度：≤1nm；端面8°角倾斜

工艺解析：

Step1端面研磨对齐阶段：使用我司GNAD-P系列设备，采用订制夹具及8°角倾斜夹具附件夹持，配备平玻璃研磨盘，端面承压总量≤200g，转速10–30 rpm，以氧化铝粉（粒径3-9μm）为研磨浆料，对端面进行对齐磨平，移除厚度400um

Step2端面细磨阶段：以Step1为基础，更换氧化铝粉（粒径1-3um）为细磨浆料，加工效果无端面崩裂痕迹，此时粗糙度可达Ra≤100nm

Step3精密抛光阶段：使用我司GNAD-P系列设备及其订制夹具与附件，配备不锈钢抛光盘结合特制阻尼布抛光垫，端面承重总量≤150g，转速5-20rpm，选用硅溶胶抛光液或者氧化铈抛光液（粒径0.1-1um）为抛光液，抛光端面粗糙度达到Ra≤1nm

Step4-6抛光第二端面阶段：对第二端面进行Step1-Step3步骤抛光，达到第一端面同等效果

案例配套主机与耗材：GNAD-P系列设备、加热板、订制夹具及夹具附件、氧化铝研磨粉、硅溶胶抛光液和聚氨酯抛光垫等

客户反馈：快速实现了多形态铌酸锂调制器面材料、体材料的端面抛光需求，将端面光损耗降低到了设计标准。