在光学材料研发领域，研磨抛光机搭载的化学机械抛光（CMP）技术，正重新定义超透光学玻璃的加工极限。
针对石英、氟化钙等脆性材料在医疗内窥镜、高精度检测仪器及纳米级光学镜头中的严苛需求，CMP通过精密调控纳米磨料与反应试剂的协同作用，实现表面粗糙度≤0.2nm的超光滑加工。
在航天级镜片制造中，智能压力补偿技术使厚度公差稳定在±0.1μm，消除传统工艺导致的微裂纹缺陷。高精密CMP设备为高端光学产业树立精密制造的全球标杆。
高精密CMP设备引领超光滑表面加工新潮流
- Главная
-
Шлифовка и полировка
-
Установка шлифовки и полировки GNAD-E
-
Установка шлифовки и полировки GNAD-T
-
Установка шлифовки и полировки GNAD-P
加工精度高高高加工精度高 -
CPI - установка для химико-динамической полировки
-
Шлифовально-полировальное оборудование для обработки нескольких пластин
-
Высокоточное двухстороннее шлифовально-полировальное оборудование
-
-
CMP и очистка
-
Установки для склеивания
-
Оптический контроль
-
Решения
-
О нас
电话：400-6988-696
微信
扫二维码微信沟通
- Главная
- Шлифовка и полировка
- CMP и очистка
- Установки для склеивания
- Оптический контроль
-
Решения
-
О нас
电话：400-6988-696
扫二维码微信沟通
400-6988-696
预约咨询