Установка шлифовки и полировки GNAD-E
Установка шлифовки и полировки GNAD-T
Установка шлифовки и полировки GNAD-P
CPI - установка для химико-динамической полировки
Шлифовально-полировальное оборудование для обработки нескольких пластин
Высокоточное двухстороннее шлифовально-полировальное оборудование
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在节能光源行业向高亮度、低能耗转型的浪潮中，研磨抛光机成为LED、OLED及量子点发光材料制造的核心利器。
针对Alq3、PPV等有机光电材料对纳米级表面平整度的严苛需求，高精度研磨抛光机通过多轴联动控制与纳米级磨粒配比技术，实现了发光层厚度误差≤0.1μm的突破性加工。
在量子点显示面板生产中，其独创的盘温监控调节功能可同步完成衬底减薄与表面活化，使蓝光激发效率提升40%，色域覆盖率达110% NTSC。对于大尺寸OLED照明基板，设备搭载的多分区压力控制系统将表面粗糙度稳定控制在0.5nm以内，显著降低微腔效应损耗。
该技术在Mini LED背光、柔性照明器件等领域的应用，推动行业良率突破98%，单位能耗下降30%，为绿色光电制造树立新标杆。
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